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Herstellung und Charakterisierung von abstimmbaren und Hochleistungslasern auf GaSb

Fabrication and Characterisation of Widely Tunable and High Power Laser based on GaSb

Zitieren Sie bitte immer diese URN: urn:nbn:de:bvb:20-opus-52122
  • Ziel dieser Arbeit war es, basierend auf dem AlGaIn-AsSb Materialsystem neuartige Laserbauelemente mit bisher unerreichten Kenndaten zu entwerfen, herzustellen und zu untersuchen. Der Fokus lag dabei zum Einen auf einer Steigerung der optischen Ausgangsleistung in Kombination mit einem monomodigen spektralen Emissionsverhalten. Zum anderen lag ein wesentliches Hauptaugenmerk auf der Realisierung von monomodig emittierenden Lasern mit einem weiten Wellenlaengenabstimmbereich.
  • The goal of this work was to design, realize and characterize innovative laser devices based on the AlGaIn-AsSb material system with previously un-reached characteristic device performance. The focus was on the one hand on the enhancement of the optical output power in combination with a singlemode spectral emission behavior. On the other hand the essential task throughout this work was the realization of singlemode emitting lasers with a broad wavelength tuning range.

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Autor(en): Mirjam Seufert
URN:urn:nbn:de:bvb:20-opus-52122
Dokumentart:Dissertation
Titelverleihende Fakultät:Universität Würzburg, Fakultät für Physik und Astronomie
Institute der Universität:Fakultät für Physik und Astronomie / Physikalisches Institut
Datum der Abschlussprüfung:28.10.2010
Sprache der Veröffentlichung:Deutsch
Erscheinungsjahr:2009
Allgemeine fachliche Zuordnung (DDC-Klassifikation):5 Naturwissenschaften und Mathematik / 53 Physik / 530 Physik
Normierte Schlagworte (GND):Abstimmbarer Laser; Hochleistungslaser; Galliumantimonid
Freie Schlagwort(e):Gallium; Halbleiterlaser
gasb; high power laser; semiconductor laser; widely tunable laser
Fachklassifikation Physik (PACS):40.00.00 ELECTROMAGNETISM, OPTICS, ACOUSTICS, HEAT TRANSFER, CLASSICAL MECHANICS, AND FLUID DYNAMICS / 42.00.00 Optics (for optical properties of gases, see 51.70.+f; for optical properties of bulk materials and thin films, see 78.20.-e; for x-ray optics, see 41.50.+h) / 42.15.-i Geometrical optics / 42.15.Eq Optical system design
Datum der Freischaltung:11.11.2010
Betreuer:Prof. Dr. Alfred Forchel
Lizenz (Deutsch):License LogoCC BY-NC-ND: Creative-Commons-Lizenz: Namensnennung, Nicht kommerziell, Keine Bearbeitung